高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀結合了磁控濺射和真空蒸發(fā)兩種鍍膜技術

更新時間：2025-09-11 點擊次數(shù)：889

　　高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是用于在真空環(huán)境中通過磁控濺射技術和蒸發(fā)法結合制備薄膜的設備，主要用于半導體材料、光學元件等領域的薄膜制備。 ‌

　　性能特點

　　薄膜質量高：磁控濺射沉積的薄膜致密、附著力強，可準確控制膜厚和成分；真空蒸發(fā)可實現(xiàn)高純度薄膜的沉積，兩者結合能制備出性能良好的薄膜，如在光學薄膜、電子器件薄膜等方面具有良好的應用效果。

　　鍍膜材料廣泛：能處理金屬、合金、化合物、半導體等多種材料，既可以通過磁控濺射沉積高熔點金屬、合金及化合物薄膜，也可以通過真空蒸發(fā)沉積純金屬、有機物等薄膜。

　　工藝靈活性強：可通過調整磁控濺射的功率、氣體壓力、靶基距，以及真空蒸發(fā)的加熱溫度、蒸發(fā)速率等參數(shù)，實現(xiàn)多種鍍膜工藝，如單靶濺射、多靶共濺射、反應濺射、蒸發(fā)鍍膜以及它們的組合工藝等。

　　應用領域

　　電子領域：用于制備半導體芯片的電極、互連層、阻擋層，以及平板顯示器的透明導電膜、光學介質膜等，如氧化銦錫透明電極、銅互連層等的制備。

　　光學領域：可制備增透膜、濾光膜、反射膜等光學薄膜，提高光學元件的光學性能，如在激光器件、太陽能電池、光學鏡頭等方面的應用。

　　機械領域：在模具、軸承等表面沉積硬質耐磨涂層、自潤滑涂層等，提高其硬度、耐磨性和使用壽命。

　　裝飾領域：用于在汽車內外飾件、電子產品外殼、珠寶飾品等表面鍍制金屬膜、合金膜、彩色膜等，提升產品的美觀性和裝飾性。

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